臺積電預計 3nm 工藝 Q3 開始帶來可觀營收，目前產能無法滿足需求

4 月 24 日消息，據外媒報道，臺積電仍采用鰭式場效應晶體管架構的 3nm 制程工藝，在去年的 12 月 29 日正式開始商業化生產，雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業界看好。

對于 3nm 制程工藝，臺積電管理層在一季度的財報分析師電話會議上，也有重點談及。

在財報分析師電話會議上，臺積電 CEO 魏哲家表示，他們的 3nm 制程工藝以可觀的良品率量產，在高性能計算和智能手機應用需求的推動下，客戶對 3nm 制程工藝的需求超過了他們的產能，他們預計今年的產能將得到充分利用。

魏哲家在會上還透露，他們的 3nm 制程工藝，預計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收，在他們今年全年晶圓代工業務收入中所占的比例預計為中等個位數。

魏哲家在會上還表示，從功耗、性能和面積及晶體管技術來看，他們的 3nm 制程工藝都是目前最先進的半導體技術，他們也因此預計客戶對他們的 3nm 制程工藝的強勁需求將持續多年，他們有信心 3nm 制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節點。